晶刻菲林膜作为一种常用的光刻膜材料，具有优异的拉伸强度、热稳定性和高解像度等特点。其制备过程简单，成本相对较低，可以被广泛地应用于半导体、电子、光学等领域的微电子制造中。
然而，晶刻菲林膜也存在着一些缺点，如对溶剂敏感、易受湿气影响、粘着性不足等问题，这些都需要在具体应用场景中加以注意。综上所述，晶刻菲林膜具有很高的应用价值，但在使用过程中需要科学合理地运用，以充分发挥其特点。
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